第188章 元旦节

要知道光刻机的难题一个接着一个，每一个都是极限般的存在。?萝′?拉$小,说d ￠a追|?最??o新|{1章￡￥节?tu

就像实现镜面粗糙度 ＜0.1 nm，0.1nm什么概念， 就是将镜面放大到地球大小，最高“山峰”与最低“山谷”的高度差不能超过 1厘米。

因为13.5 nm波长的euv光对表面缺陷极度敏感，即使纳米级起伏也会导致散射损耗，降低反射率。

这样会导致制作芯片成功率极低，要知道芯片这样的耗费是巨大的。

实现 ＜0.1 nm粗糙度的本质是操控物质在原子尺度的有序性，这需要将量子物理、超精密工程和极端环境控制推向极限。

需要超精密抛光工艺，使用离子束抛光，高能离子束（如氩离子）轰击镜面，逐原子层剥离材料（溅射效应），精度可达0.01 nm级。+q′s￠b^x\s?.?c,o\m¨

关键是控制离子束能量、入射角度和驻留时间的实时反馈调节。

这就需要大量的计算，数学与物理的结合，刚好这些是李漫漫不怕得。

再利用含磁性颗粒的抛光液在磁场中形成柔性“抛光模”，通过纳米级剪切力去除表面高点。

48天，李漫漫48天就成功的做出了＜0.1 nm的镜面。

这是一项历史的突破，这让大家对做出euv光刻机有了很大的信心。

大家仿佛吃了兴奋剂一样，每个人都兴致高昂，有种不做出光刻机不罢休的样子。