第186章 论文(第2页)

如果李漫漫像普通的天才一样，李漫漫绝对不敢这样，但是李漫漫拥有领先几个世纪的技术，所以李漫漫敢立下军令状。

这是一场极限的挑战。

比如euv光刻使用13.5纳米的极紫外光。?¤微?趣.o小¤>说_网@xe ?>追!最$1新!章%[x节?))反射镜表面粗糙度需小于0.1纳米，若将镜面放大到地球大小，瑕疵高度不能超过1厘米。

反射镜需交替镀40-60层硅和钼，每层厚度误差需控制在0.01纳米以内，否则光路偏差会导致芯片图案失效。

晶圆台和掩模台需以纳米精度同步移动，速度达1m/s以上，定位误差小于1纳米。

设备需隔绝外界振动，温度波动需控制在0.001°C以内，否则光学元件热胀冷缩会破坏精度。

这些都是极其难以攻克的。

一台euv光刻机重达180吨，包含超过10万个零件。

要知道后来全球仅AsmL能生产euv光刻机的原因是依赖国际协作，单一国家难以复制全产业链，最主要的核心部件都掌握在欧美国家手中。

这10万个零件并非李漫漫一个人完成，不然李漫漫到死也完成不了。

其实大部分华国现在是可以做出来的，现在只差里面的核心技术。

李漫漫只要攻克这些核心技术即可。

这次研究不在首都，要去沪市。

沪市现在有着华国最好的光电所之一，里面有几位院士坐镇。