第562章 国产光刻机(第2页)

　　好不容易烧出了光学玻璃，可打磨加工又是难点，即便是八级工上阵也难以打磨出符合要求的高精度透镜，最终还是宋远偷梁换柱送进国内的瑞士高精度磨床到了以后，配合着8级工干废了上百套后才弄出来一套符合要求的光学透镜。

　　如今这台投影式光刻机还是采用的扫描式光刻，还没达到宋远心中想要的步进式光刻机。

　　两者的区别就在于扫描式是把图案1:1的投影到晶圆上，而步进式通过一系列镜头可以1:5、1:10的比例缩小后投影到晶圆上。

　　即便如此扫描式和接触式、接近式的光刻机相比最大的特点是良品率高。

　　接触式和接近式的光刻机良品率通常情况下只有10%-20%，生产出来的芯片八成以上都是废品；而扫描式理论上最高能到90%以上！

　　接到这个好消息，宋远带上那10个计算器就直奔京城而去。

　　见了科学院的吴副院长，他的脸也笑开花：如今这集成电路用处越来越广泛，科学院这边压力很大。好在有宋远这个冤大头掏钱，总算搞出来了一项世界领先的技术。

　　这不，冤大头又来了？

　　带着宋远进了华清大学的实验室，宋远看到了自己心心念念的光刻机。

　　如今的光刻机并不大，也就两三米长、一米多宽、两米高，与宋远记忆中后世AsmL的3400b光刻机有12米长、7米宽、4米高，重达上百吨相差很远。

　　“吴副院长，这台光刻机性能怎么样？”宋远问道。

　　旁边的王所长介绍起来：“我们称它为68式光刻机，能使用2英寸晶圆每小时蚀刻80片，良品率我们这些天实验了一下能达到70%，后期还有提高的空间！”

　　宋远愣了一下心里盘算起来。马克他们整出来的m1微处理器尺寸是3*4厘米，也就是2英寸的晶圆一次只能生产一颗m1的芯片，一个小时只能生产50多个合格的m1微处理器。

　　难怪现在的芯片这么贵！

　　后世常用的是12英寸晶圆，而芯片尺寸又小的多。比如说遥遥领先的麒麟990-5g芯片尺寸才是10.68*10.61毫米，一片晶圆一次就可以光刻出500块左右的成品芯片，效率那是杠杠的。